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英亚真人app 光刻机的中枢技艺来自一位华侨,难怪ASML说中国只须3年就能造出

时间:2022-09-18 12:45 点击:143 次

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如今首屈一指的光刻机厂商——荷兰ASML,在上世纪90年代时,仅仅一个蔽聪塞明的小公司,其时的龙头是日本尼康,在193纳米的制程上,委果附近,占据着全国光刻机阛阓50%以上的份额。而其时流行的技艺叫干式光刻技艺,即把空气行动镜头与晶圆之间的介质,但这种步地越向下发展,越难雕镂更细腻的电路。

2002年,有一位叫林本坚的华侨受邀参加美国的芯片研讨会,原来仅仅过来充数的,谁知他反客为主,张大其辞,在会上讲起了他的侵入式光刻技艺,用水取代空气,这样就不错做到134纳米了。成果是人们对他的表面默示讴歌,但会议后2年多时刻里,尼康不时深造干式光刻技艺。唯有一家公司听进去了,便是ASML,简直顺利毁灭了157纳米的干式议论,启动主攻193纳米的浸入式。

好在此次的作死马医是顺利的,从而一举打破到132纳米,逾越了尼康两个段位。也恰是靠着侵入式技艺的ASML,占领了全国70%的光刻机阛阓,这位林本坚功不能没,关于我们他究竟是谁呢?林本坚,祖籍广东潮安,1942年缔造在越南一个华人家庭,在中国台湾读的新竹中学,随后考上台大电机系,再到美国俄亥俄州立大学读博,过问镭射议论。毕业后先在IBM职责,2000年回到中国台湾,加入了台积电,也恰是那时议论出侵入式光刻技艺,助ASML崛起,而台积电领有ASML的股份,可能也和他联系。在中国自研光刻机的问题上,他曾经给过倡导,说咱们不一定需要EUV光刻机,用现存的技艺就不错做到5纳米的制程,但唯有在不得已的时候智商这样做,因为会有良品率的问题。

他的依据是,台积电其时也并没灵验EUV,就做出了7纳米,运用多重曝光技艺,内容亦然不错量产5纳米的。这个教训予以了咱们很大的信心,至少在自研的道路上,有了“后手”,使得咱们愈加勇于尝试,以阛阓换时刻,投降会很快补足咱们的“短板”,届时,芯片、云计较、AI等产业都将会有质的飞跃。

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